対向円筒型ターゲットを用いたRF磁化放電スパッタによるAZO透明導電薄膜合成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT16057

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2016/10/20

タイトル(英語): AZO transparent conductive thin film synthesis by RF magnetized discharge sputtering using facing cylindrical targets

著者名: 住山 貴史(佐賀大学),福元 喬也(佐賀大学),大津 康徳(佐賀大学),田原 竜夫(産業技術総合研究所九州センター),本村 大成(産業技術総合研究所九州センター)

著者名(英語): Takashi Sumiyama(Saga University),Takaya Fukumoto(Saga University),Yasunori Ohtsu(Saga University),Tatsuo Tabaru(AIST Kyushu),Taisei Motomura(AIST Kyushu)

キーワード: 透明導電膜|スパッタリング|ホロー電極|マグネトロンスパッタ|プラズマ|薄膜|Transparent Conductive Films|Sputtering|Hollow electrode|Magnetron sputtering|Plasma|Thin film

要約(日本語): 近年、ZnOにAlを混ぜたAZOと呼ばれる透明導電膜がITOの代替物として注目されている。マグネトロンスパッタ法による薄膜合成では、抵抗率の分布が不均一になる課題が残されている。その解決方法として、ターゲット板を向い合せた対向ターゲットスパッタ法があるが、処理速度が低下する欠点がある。本研究では、ホロー電極内にAZO円筒ターゲットリングを配置し、低圧力で高密度なプラズマを発生させることで、AZO膜の成膜を行う。

要約(英語): Recently, the transparent conductive film called AZO(Al doped ZnO) has been attracted. There is a problem that the distribution of the resistivity is not uniform. In this study, AZO thin film is deposited by RF magnetized high-density plasma sputtering with facing AZO cylindrical targets mounted in the hollow electrode.

原稿種別: 日本語

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