変調-無変調誘導熱プラズマを併用した多結晶ダイヤモンド膜生成の圧力依存性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT17055

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2017/10/25

タイトル(英語): Pressure Dependence of Polycrystalline Diamond Film Deposition Using Modulated and Non-Modulated Induction Thermal Plasmas.

著者名: 荒井 隆志(金沢大学),別院 利城(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),石島 達夫(金沢大学)

著者名(英語): Takashi Arai(Kanazawa University),Toshiki Betsuin(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University)

キーワード: 変調誘導熱プラズマ|無変調誘導熱プラズマ|多結晶ダイヤモンド|圧力依存性|核生成|粒子成長|Modulated induction thermal plasma|Non-modulated induction thermal plasma|Polycrystalline diamond|Pressure Dependence|Nucleation|Growth of the particles

要約(日本語): 本論文では，変調-無変調誘導熱プラズマ(ICTP)照射による多結晶ダイヤモンド膜生成の圧力依存性を検討した。具体的には，まず圧力60,180および250 torrでSi基板に変調ICTPを照射した。その結果，圧力が60 torrの場合，堆積物が密に生成されていた。そこで，圧力を60 torrとし，変調ICTPを照射したSi基板を3つ用意した。これらの基板に，圧力を3通りに設定した無変調ICTPを照射した。その結果，圧力が低いほど膜生成レートが向上することを確認した。

要約(英語): We investigated pressure dependence of polycrystalline diamond film deposition by irradiation of modulated and non-modulated induction thermal plasmas. The modulated induction thermal plasma was used for nucleation of diamond particles, and then the non-modulated induction thermal plasma was adopted for diamond particle growth and then diamond film deposition. As a result, reduced pressure increases the deposition rate of diamond film.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 4,064 Kバイト