高繰返しパルス電圧印加時のキャビテーションプラズマの発生と消滅

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PPT17072

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 パルスパワー研究会

発行日: 2017/10/26

タイトル(英語): Preparation and disappearance of cavitation bubble plasma applied high repetition pulsed voltage

著者名: 岡田 翔(兵庫県立大学),岡 好浩(兵庫県立大学),上野 秀樹(兵庫県立大学)

著者名(英語): sho okada(University of Hyogo),yoshihiro oka(University of Hyogo),hideki ueno(University of Hyogo)

キーワード: キャビテーションプラズマ|液中プラズマ|低温プラズマ|キャビテーション気泡|高繰返しパルス|連続放電現象|cavitation bubble plasma|in-liquid plasma|low-temperature plasma|cavitation bubble|high repetition pulse|consecutive ignition phenomena

要約(日本語): キャビテーションプラズマは高繰り返し高電圧短パルスを印加した電極間にキャビテーション気泡を含む溶液を導くことで生成される液中低温プラズマである。キャビテーションプラズマは処理能力が高く、分散、合成、分解、殺菌などへの応用が期待されている。しかし、その放電現象は明らかになっていない。本発表では、高繰返しパルスを印加した際のキャビテーションプラズマ発生・消滅における連続放電現象について報告する。

要約(英語): Cavitation bubble plasma generated efficiently in micro bubble cloud in liquid is a novel high-efficiency and low-temperature plasma in liquid. In this study, a discharge behavior of cavitation bubble plasma in NaCl solution was investigated by using ICCD camera in order to reveal fundamental discharge characteristics.

原稿種別: 日本語

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