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シャンテイングアークアシストRF(195kHz) 放電のイオン電流とイオン密度

シャンテイングアークアシストRF(195kHz) 放電のイオン電流とイオン密度

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST05008

発行日: 2005/03/03

タイトル(英語): The plasma characteristic of omnidirectional shunting arc discharge

著者名: 行村 建 江古 憲一 高木 浩一 向川 政治 藤原 民也(同志社大学,岩手大学)

著者名(英語): Kenichi Ego Ken Yukimura(Doshisha University)Koichi Takagi Seiji Mukaigawa Tamiya Fujiwara(lwate University)()

キーワード: シャンティングアーク放電,PBII&D法,アモルファスカーボン薄膜,メタンガス,プラズマ密度

要約(英語): 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,137 Kバイト

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