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多層膜合成用のT/クランクーハイブリッドFADの開発

多層膜合成用のT/クランクーハイブリッドFADの開発

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST05084

発行日: 2005/10/27

タイトル(英語): Development of T/Crank-Hybrid Filtered Arc Deposition Apparatus for multilayer films

著者名: 彦坂 博紀 岩崎 康浩 滝川 浩史 榊原 建樹 長谷川 祐史 辻 信広(豊橋技術科学大学,株式会社オンワード技研)

著者名(英語): Hiroki Hikosaka Yasuhiro Iwasaki Hirofumi Takikawa Tateki Sakakibara(Toyohashi University of Technology) Hiroshi Hasegawa Nobuhiro Tuji(Onward Ceramic Coating Co.Ltd)()

キーワード: X 字状フィルタードアーク蒸着(X-FAD) 装置,水素フリ一DLC (ta-C) 膜,Cr 膜,超硬基材,接着層

要約(英語): 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 907 Kバイト

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