正バイアス・プラズマイオンプロセスの展開

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST05091

発行日: 2005/10/27

タイトル(英語): Development of the Plasma-Based Ion Process with Positive Plasma Biasing

著者名: 中尾 領揮 野中 裕瀬 池畑 隆 佐藤 直幸 行村 建(茨城大学,同志社大学)

著者名(英語): Ryoki Nakao Yuya Nonaka Takashi Ikehata Naoyuki Sato(Ibaraki University) Ken Yukimura(Doshisha University)()

キーワード: プラズマイオンプロセス,デュアルプラズマ,表面処理,絶縁物

要約(英語): 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 871 Kバイト