セシウム添加型大面積負イオン源におけるビーム一様性の改善

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST06002

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2006/01/12

タイトル(英語): Improvement of beam uniformity in a Cs-seeded large negative ion source

著者名: 関 孝義(日本原子力研究開発機構),花田磨砂也 (日本原子力研究開発機構),戸張 博之(日本原子力研究開発機構),井上 多加志(日本原子力研究開発機構),柏木 美恵子(日本原子力研究開発機構),谷口 正樹(日本原子力研究開発機構),渡連 和弘(日本原子力研究開発機構),坂本 慶司(日本原子力研究開発機構),高戸 直之(慶大理工),水野 貴敏(慶大理工),畑山 明聖(慶大理工)

著者名(英語): Takayoshi Seki(Japan Atomic Energy Agency),Masaya Hanada(Japan Atomic Energy Agency),Hiroyuki Tobari(Japan Atomic Energy Agency),Takashi Inoue(Japan Atomic Energy Agency),Mieko Kashiwagi(Japan Atomic Energy Agency),Masaki Taniguchi(Japan Atomic Energy Agency),Kazuhiro Watanabe(Japan Atomic Energy Agency),Keishi Sakamoto(Japan Atomic Energy Agency),Naoyuki Takado(Keio Univ.),Takatoshi Mizuno(Keio Univ.),Akiyoshi Hatayama(Keio Univ.)

キーワード: NBI|負イオン源|ビーム一様性|磁気フィルタ

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 737 Kバイト