正バイアス電極を用いたシャンティングアークによる誘起プラズマの生成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST06025

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2006/01/13

タイトル(英語): An induced plasma generation by a shunting arc discharge using a positive biased electrode

著者名: 行村 建(同志社大学),今井 貴文(同志社大学),江古憲一 (同志社大学),高木 浩一(岩手大学),向川 政治(岩手大学),藤原 民也(岩手大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学)

著者名(英語): Ken Yukimura(Doshisha University),Takafumi Imai(Doshisha University),Kenichi Ego(Doshisha University),Koichi Takaki(Iwate University),Seiji Mukougawa(Iwate University),Tamiya Fujiwara(Iwate University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University)

キーワード: アーク放電|誘起プラズマ|複合プラズマ|シャンティングアーク|プラズマイオン注入堆積法

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 897 Kバイト