ガスバリア膜形成-の銅イオン源の応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST06032

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2006/01/13

タイトル(英語): Application of Copper Ion Source for Formation of Gas Barrier Film

著者名: 中村 圭二(中部大学),西戸雄輝 (中部大学)

著者名(英語): Keiji Nakamura(Chubu University),Yuki Nishido(Chubu University)

キーワード: ガスバリア膜|銅イオン源|プラズマ|スパッタリング|表面処理|PTFE

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 622 Kバイト