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デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御

デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST06053

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2006/05/26

タイトル(英語): Charge-neutralized surface treatment of an insulating workpiece by the dual-plasma ion process

著者名: 野中 裕禰(茨城大学),中尾 嶺揮(茨城大学),諸岡 正人(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),行村 建(同志社大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

著者名(英語): Yuya Nonaka(Ibaraki University),Ryoki Nakao(Ibaraki University),Masato Morooka(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Ken Yukimura(Doshisha University),Kingo Azuma(University of Hyogo)

キーワード: プラズマイオンプロセス|デュアルプラズマ|表面処理|絶縁物

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,113 Kバイト

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