高周波を用いた低誘電率薄膜のプラズマ窒化

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST07001

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2007/01/26

タイトル(英語): Ammonia plasma nitridation of low dielectric constant film MSQ(methylsilsesquioxane)

著者名: 伊藤 康裕(岩手大学),及川 勇太(岩手大学),向川 政治(岩手大学),高木 浩一(岩手大学),藤原 民也(岩手大学)

著者名(英語): Yasuhiro Ito(Iwate University),Yuta Oikawa(Iwate University),Seiji Mukaigawa(Iwate University),Koichi Takaki(Iwate University),Tamiya Fujiwara(Iwate University)

キーワード: プラズマ窒化|MSQ|low-k|絶縁物メッシュ|銅イオンドリフト|アンモニア|RF|ラングミュアプローブ|XPS|plasma nitridation|MSQ|low-k|dielectric mesh|Cu ion drift|ammonia|RF|langmuir probe|XPS

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 416 Kバイト