デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST07026

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2007/08/20

タイトル(英語): Effects of the grid coarseness and the bias voltage on the formation of the dual-plasma configuration

著者名: 佐藤広輝 (茨城大学),野中 裕彌(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),行村 建(同志社大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

著者名(英語): Hiroki Sato(Ibaraki University),Yuya Nonaka(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Ken Yukimura(Doshisha University),Kingo Azuma(University of Hyogo)

キーワード: デュアルプラズマ|絶縁物|グリッド粗さ|印加電圧|イオンシース|dual-plasma|insulators|grid coarseness|applied voltage|ion sheath

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 452 Kバイト