プロセス用高周波・マイクロ波プラズマ源の開発とその応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST07066

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2007/12/21

タイトル(英語): Development of radio frequency and microwave plasma sources for plasma processing and its application

著者名: 藤田 寛治(佐賀大学),大津 康徳(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学)

著者名(英語): Hiroharu Fujita(Saga University),Yasunori Ohtsu(Saga University),Misawa Tatsuya(Saga University)

キーワード: 高周波プラズマ|マイクロ波プラズマ|電子・イオンエネルギー分布

要約(日本語): プラズマをインテリジェントに創製するために、プラズマ物理に基づいた様々な試みが行った。高周波プラズマの高密度化においては、駆動周波数、電極材料、ホロー陰極効果に関する影響を検討した。リング状永久磁石と円環スロットアンテナを用いることで、大面積均一マイクロ波プラズマ（直径３０ｃｍ）を生成した。更に、マイクロ波プラズマ中におけるイオンエネルギー分布やイオン２次元速度空間を静電アナライザを用いて解析した。

要約(英語): In order to develop an intelligent plasma source, various tries based on plasma physics have been applied. Effects of driving frequency, electrode material and hollow cathode discharge were investigated for production of high-density radio frequency plasm

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 470 Kバイト