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周波数シフトプローブを用いたプラズマ計測

周波数シフトプローブを用いたプラズマ計測

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST07068

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2007/12/21

タイトル(英語): Plasma Diagnostics with Frequency Shift Probe

著者名: 中村 圭二(中部大学),原田亮 (中部大学),菅井 秀郎(中部大学)

著者名(英語): Keiji Nakamura(Chubu University),Ryo Harata(Chubu University),Hideo Sugai(Chubu University)

キーワード: 周波数シフトプローブ|電子密度|反応性プラズマ|密度モニタリング

要約(日本語): 材料プロセス用プラズマ源における不可侵電子密度モニタリングに向けた周波数シフトプローブを報告している。このプローブにより、絶縁膜が堆積するプラズマでも絶対密度計測が行え、表面波プローブに比べて測定できる圧力領域を拡張できた。

要約(英語): A frequency shift probe was reported for non-invasive monitoring of electron density in plasma sources for materials processing. The probe allowed us to perform absolute density measurements under soiled conditions as well as to extend its measurable pres

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 517 Kバイト

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