プラズマCVD法によるナノダイヤモンド成膜の初期過程における水素の役割

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST07080

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2007/12/22

タイトル(英語): Role of hydrogen in the initial stage of nanodiamond film deposition by plasma-enhanced CVD

著者名: 劉沖明 (龍華科技大学),堤井君元 (九州大学),丁鯤 (龍華科技大学),堤井信力 (龍華科技大学)

著者名(英語): Chung-Ming Liu(Lunghwa University of Science and Technology),Kungen Teii(Kyushu University),Kuen Ting(Lunghwa University of Science and Technology),Shinriki Teii(Lunghwa University of Science and Technology)

キーワード: ナノ結晶|プラズマCVD|水素|アモルファスカーボン

要約(日本語): マイクロ波プラズマCVD法によるナノダイヤモンド成膜の初期過程に対する水素希釈の影響について、二段階プロセスを用いて調べた。前処理において、水素5%を、Ar-rich/CH4/H2に添加すると、核生成密度が増加し、結晶性の向上が見られた。しかし10%以上添加すると、核生成は過剰なエッチングによる核生成サイトの除去によって、核生成が抑制された。水素希釈は初期ダイヤモンドクラスターの表面終端と安定化を促進し、核生成の促進に大きく寄与する。

要約(英語): Hydrogen dilution effects on the initial stage of nanodiamond film deposition have been examined by using a two-step process in microwave plasma CVD. An addition of 5 %H2 to Ar-rich/CH4/H2 in the pretreatment increased the nucleation density and grain siz

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 529 Kバイト