熱プラズマによるアモルファス酸化チタン皮膜の結晶化処理

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST07081

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2007/12/22

タイトル(英語): Crystallization of Amorphous Titanium Oxide Film by Thermal Plasma

著者名: 安藤康高 (足利工業大学),戸部 省吾(足利工業大学),田原 弘一(大阪工業大学)

著者名(英語): Yasutaka Ando(Ashikaga Institute of Technology),Shogo Tobe(Ashikaga Institute of Technology),Hirokazu Tahara(Osaka Institute of Technology)

キーワード: 酸化チタン|熱プラズマCVD|MOCVD|光触媒|プラズマ熱処理

要約(日本語): 著者らは以前より、大気熱プラズマCVD（TPCVD)により酸化チタン皮膜の合成を行っており、光触媒特性を有する酸化チタンの合成にも成功している。しかしながら、成膜距離（プラズマトーチ－基材間距離）を近づけるに従い結晶化度および光触媒特性の高い皮膜が形成されるが皮膜強度は著しく低下するため、DSCの光電素子皮膜などに応用するためには、更なる皮膜の高強度化を図る必要がある。本研究では、大気TPCVDによる高強度皮膜形成プロセスの開発を目的として、TiO2粒子の焼結の際にバインダとして用いられるポリエチレングリ

要約(英語): In our previous study, it was proved that photo-catalytic titanium oxide film could be deposited even by atmospheric thermal plasma CVD. However, though degree of crystallinity of the deposited film was raised, film strength was deteriorated with increasi

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 748 Kバイト