負パルス-デュアルプラズマ法の基礎特性とポリマー表面改質への応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST07085

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2007/12/22

タイトル(英語): Basic characteristics of the negative-pulse-bais,dual-plasma process and it applocation to surface modification of polymers.

著者名: 石塚直夫 (茨城大学),根本 翔(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),行村 建(同志社大学)

著者名(英語): Sunao Ishizuka(University of Ibaraki),Sho Nemoto(University of Ibaraki),Takashi Ikehata(University of Ibaraki),Naoyuki Sato(University of Ibaraki),Ken Yukimura(Doshisha University)

キーワード: プラズマイオンプロセス法|イオンシース|絶縁物|NPB-デュアルプラズマ法

要約(日本語): プラズマイオンプロセスはプラズマを用いて基材の表面改質を行う方法の1つである。今までは金属製品等の耐摩耗性、耐腐食性、表面硬化の改善など被処理物は導電性材料が主であった。一方で絶縁物の表面処理を行うには表面の帯電が問題になっていた。プラズマイオンプロセスで表面処理を行うにあたり、シースの挙動は重要な要素である。本論文では、導電性及び絶縁性の被処理物の表面でのシースの挙動を分析し,比較検討した。またNPB-デュアルプラズマ法による基礎特性を調べた。

要約(英語): A plasma ion process is one of the methods which performs surface modification of a base material using plasma. A conductive material of things, such as an improvement of the wear resistance of metal goods etc., corrosiveness-proof, and hard facing, to be

原稿種別: 日本語

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