二周波プラズマスパッタリングによる窒化アルミニウム薄膜の高速合成～アルミニウム薄膜高速化～

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08037

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/07/04

タイトル(英語): High speed deposition of aluminum nitride thin film by dual frequency plasma sputtering ~Investigation of high deposition rate of Al thin film~

著者名: 樋野 幸己(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学),大津 康徳(佐賀大学),秋山 守人(産総研九州センター),藤田 寛治(佐賀大学)

著者名(英語): Kohki Hino(Saga University),Tatsuya Misawa(Saga University),Yasunori Ohtsu(Saga University),Morito Akiyama(National Institute of Advanced,Industrial Science and Technology),Hiroharu Fujita(Saga University)

キーワード: スパッタリング|薄膜|窒化アルミニウム|アルミニウム|sputtering|thin film|aluminum nitride|aluminum

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 335 Kバイト