C2H2F2を用いたプラズマCVD法による撥水性薄膜合成とその密着性の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08040

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/07/04

タイトル(英語): Preparation of water-repellent thin film with plasma CVD using C2H2F2 gas and investigation of its adhesion

著者名: 和田 憲和(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学),大津 康徳(佐賀大学),藤田 寛治(佐賀大学)

著者名(英語): Norikazu Wada(Saga University),Tatsuya Misawa(Saga University),Yasunori Ohtsu(Saga University),Hiroharu Fujita(Saga University)

キーワード: 誘導結合型プラズマ|プラズマCVD法|ジフルオロエチレン|低電子温度プラズマ|撥水性|密着性|Inductively Coupled Plasma|plasma CVD method|di-fluoro ethylene(C2H2F2)|low-electron temperature plasma|water repellency|adhesion

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 451 Kバイト