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水素・アルゴン混合パルスプラズマによるスズ薄膜のエッチングに関する研究
水素・アルゴン混合パルスプラズマによるスズ薄膜のエッチングに関する研究
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カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PST08048
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会
発行日: 2008/07/05
タイトル(英語): Study of Plasma Etching by Pulsed Discharge Plasma with Hydrogen and Argon Mixed Gases for Tin Thin Film
著者名: 東 欣吾(兵庫県立大学),中島章孝 (兵庫県立大学),藤原 閲夫(兵庫県立大学)
著者名(英語): Kingo Azuma(University of Hyogo),Nakashima (University of Hyogo),Etsuo Fujiwara(University of Hyogo)
キーワード: プラズマエッチング|プラズマイオンプロセス|パルス高電圧|パルスプラズマ|スズ|Plasma etching|Plasma ion process|Pulsed plasma|Pulsed voltage|Tin
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 638 Kバイト
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