プラズマイオン注入法を用いた滅菌における滅菌ガス（ArとN2）の効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08049

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/07/05

タイトル(英語): Effect of sterilization gas (Ar and N2) on sterilization process by PBII

著者名: 田中 武(広島工業大学),浜田 啓司(広島工業大学),松原 健介(広島工業大学),曾我 和彦(広島工業大学),吉本 晃弘(広島工業大学),高木 俊宜(広島工業大学)

著者名(英語): Takeshi Tanaka(Hiroshima Institute of Technology),Keiji Hamada(Hiroshima Institute of Technology),Kensuke Matsubara(Hiroshima Institute of Technology),Kazuhiko Soga(Hiroshima Institute of Technology),Akihiro Yoshimoto(Hiroshima Institute of Technology),Toshinori Takagi(Hiroshima Institute of Technology)

キーワード: PBII(Plasma based ion implantation)|Sterilization|Bacillus pumilus|PBII(Plasma based ion implantation)|Sterilization|Bacillus pumilus

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 600 Kバイト