ハイパワーパルススパッタ（HPPS）マグネトロン放電装置の特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08076

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/19

タイトル(英語): The property of high power pulsed sputtering (HPPS) magnetron discharge

著者名: 加藤博貴 (同志社大学),行村 建(同志社大学),玉垣 浩(株式会社神戸製鋼所),沖本 忠雄(株式会社神戸製鋼所)

著者名(英語): Hiroki Kato(Doshisha University),Ken Yukimura(Doshisha University),Hiroshi Tamagaki(KOBE STEEL,LTD),Tadao Okimoto(KOBE STEEL,LTD)

キーワード: パルスマグネトロンスパッタリング|HIPIMS|HPPMS|成膜|Pulsed magnetron sputtering|HIPIMSHPPMS|HPPMS|film deposition

要約(日本語): 本研究ではハイパワーパルススパッタ（HPPS）マグネトロン放電を用いた。HPPSとは、高電圧パルスを印加するスパッタの総称で、高電圧パルスを印加するマグネトロン放電は、金属種のスパッタと同時にイオン化することが可能である。HPPSマグネトロン放電においてターゲットの金属による違い、電圧を印加した時の電圧、電流特性及びイオン電流、発光スペクトルや成膜の特性等、種々の特性を測定、観測した。

要約(英語): This research is the electrical characteristic of high-power pulsed sputtering (HPPS) magnetron discharge. We measured and considered the voltage and the circuit current characteristics when the gas composition and pressure in the chamber was varied. The

原稿種別: 日本語

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