ダメージフリープラズマ源を用いた親水化処理実験と分光特性測定

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08079

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/19

タイトル(英語): Hydrophilization treatment by a damage-free plasma source and spectroscopic measurement

著者名: 山﨑正太郎 (東京工業大学),佐々木 良太(東京工業大学),宮原 秀一(東京工業大学),嶋田 隆一(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学),沖野 晃俊(東京工業大学)

著者名(英語): Shotaro Yamasaki(Tokyo Institute of Technology),Ryota Sasaki(Tokyo Institute of Technology),Hidekazu Miyahara(Tokyo Institute of Technology),Ryuichi Shimada(Tokyo Institute of Technology),Eiki Hotta(Tokyo Institute of Technology),Akitoshi Okino(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: ダメージフリープラズマ|大気圧プラズマ|表面処理|親水化|Damage-free plasma|Atmospheric plasma|Surface treatment|Hydrophilization

要約(日本語): 大気圧プラズマは真空容器や排気設備が不要であり，活性種密度の高いプラズマを生成でき，かつ連続処理が行えることから，表面処理を中心とした各種分野への応用が期待されている。しかし，従来の大気圧表面処理用プラズマ源では，金属をプラズマ源に近づけるとアーク放電が生じるため，処理対象物は電気伝導度の低いものが中心であった。そこで，金属表面の洗浄や親水化処理を目的として，プラズマ源から処理対象物に放電損傷を与えない，大気圧ダメージフリープラズマ源を開発した。そして，このプラズマ源を用 いて銅表面の処理実験を行った。そ

要約(英語): In recent years, atmospheric plasma sources have been developed for industrial applications, because it dose not use vacuum pumping system or chambers and high-density plasma can be generated. However, metal surface treatment by usual atmospheric plasma

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 775 Kバイト