マイクロストリップを用いたマイクロ波励起リモートプロセスプラズマ

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08092

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/19

タイトル(英語): Microwave-excited remote processing plasmas using a microstrip line

著者名: 金 載浩(産業技術総合研究所),桂井 誠(放送大学東京文京学習センター),金 東珉(東京大学),大崎博之 (東京大学)

著者名(英語): Jaeho Kim(AIST),Makoto Katsurai(Tokyo Bunkyo Study Center,Open Univ. of Japan),Dongmin Kim(Univ. of Tokyo),Hyroyuki Ohsaki(Univ. of Tokyo)

キーワード: 大気圧プラズマ|マイクロ波プラズマ|マイクロストリップライン|リモートプラズマ|プラズマジェット|表面改質|atmospheric pressure plasma|microwave plasma|microstrip lin|remote plasma|plasma jet|surface modification

要約(日本語): マイクロストリップラインを用いて2.45 GHzマイクロ波励起リモートプロセスプラズマ装置を開発した。本プラズマ装置ではノズルを金属網で覆った。大気圧および準大気圧におけるプラズマ発光観察を行い，広い圧力範囲（50 ～ 760 Torr）においてプラズマがノズル内に閉じ込められたことを確認した。また，圧力とノズルからの距離をパラメータとしてポリカーボネート表面の親水性処理を行い，本装置の有効性を確認された。

要約(英語): A 2.45 GHz microwave-excited remote processing plasma was developed using a microstrip line. In this plasma device, the open end of the gas nozzle was covered by a metal mesh which restricts the microwaveradiations and the bright plasma blowing from the n

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 903 Kバイト