デュアルプラズマ配位における絶縁性基材の帯電中和条件の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08093

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/19

タイトル(英語): Examination of the charged neutralization on the insulator in the DP configuration

著者名: 佐藤広輝 (茨城大学),佐藤弘基 (茨城大学),神谷旭人 (茨城大学),渡部 雄介(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),行村 建(同志社大学)

著者名(英語): Hiroki Sato(Ibaraki University),Hiroki Sato(Ibaraki University),Akihito Kantani(Ibaraki University),Yusuke Watanabe(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Ken Yukimura(Doshisha University)

キーワード: デュアルプラズマ|絶縁性基材|帯電中和|浮遊電位|dual plasma|insulating workpiece|charge neutralization|floating potential

要約(日本語): デュアルプラズマ配位は、エネルギー制御されたイオンビームによって絶縁性基材の表面処理を行うために提案したものである。デュアルプラズマ配位は二つのドライバープラズマとターゲットプラズマから成り立っていて、二つのプラズマはグリッドによって電気的に分離されている。ドライバープラズマは、グリッドを通りターゲットプラズマ中の絶縁性基材上にイオンを加速させるために、ターゲットプラズマに対し正の直流電圧をバイアスしている。この研究では、デュアルプラズマにおける分離グリッドの効果と帯電中和メカニズムの条件について検討した

要約(英語): The dual plasma (DP) configuration has been proposed to make the surface treatment of insulator by the energy-controlled ion beam. The dual plasma (DP) configuration consists of two plasmas, the driver plasma and the target plasma, separated electrically

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 642 Kバイト