ナノキャピラリー構造を有する大気圧プラズマジェットの開発と超微細プロセスへの応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08104

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/20

タイトル(英語): Development of the Atmospheric Pressure Plasma Jet with Nano-Capillary Structure and Application to Ultrafine Process

著者名: 掛井良太 (静岡大学),荻野 明久(静岡大学),岩田 太(静岡大学),永津 雅章(静岡大学)

著者名(英語): Ryota Kakei(Shizuoka University),Akihisa Ogino(Shizuoka University),Futoshi Iwata(Shizuoka University),Masaaki Nagatsu(Shizuoka University)

キーワード: 大気圧非平衡プラズマジェット|ナノサイズプラズマ|マイクロ・ナノキャピラリーピペット|超微細プロセス|Atmospheric Pressure Plasma Jet|Nanosized Plasma|Micro- or Nano-Capillary Pipette|Ultrafine Process

要約(日本語): 本研究では、大気圧非平衡プラズマを用いた超微細材料プロセス技術の開発を目指している。まず我々は、直径250μmの先端径を有し、パルス高電圧駆動により生成した大気圧プラズマジェットを用いて、エッチングレートが13μm/minのSiエッチングを確認している。今回は、先端口径φ5μmまたはφ500nmのマイクロ・ナノキャピラリー構造を用いた超微細大気圧プラズマジェットの作製を試みた。それを用いたナノサイズプラズマ生成の確認およびそれを用いたスケール表面加工の検証を行うことを目的として、レジスト膜を塗布したシリコ

要約(英語): The atmospheric pressure plasma jet (APPJ) has been developed to apply it to the ultrafine process. With the APPJ having an aperture of 250um in diameter, driven by a pulsed high voltage, we demonstrated an etching rate of 13um/min in Si etching experimen

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,350 Kバイト