デュアルプラズマ配位におけるイオンエネルギーのガス圧力依存性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08105

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/20

タイトル(英語): Gas pressure dependence of the ion beam energy in a dual plasma device

著者名: 佐藤弘基 (茨城大学),佐藤広輝 (茨城大学),神谷旭人 (茨城大学),渡部 雄介(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),行村 建(同志社大学)

著者名(英語): Hiroki Sato(Ibaraki University),Hiroki Sato(Ibaraki University),Akihito Kantani(Ibaraki University),Yusuke Watanabe(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Ken Yukimura(Doshisha University)

キーワード: デュアルプラズマ|イオンビーム|ガス圧力|イオン衝突|平均自由行程|dual plasma| ion beam| gas pressure|ion collisions|mean free path

要約(日本語): デュアルプラズマイオンプロセスはエネルギー制御されたイオンビームによよって、絶縁性基板表面を帯電させることなく処理することを可能とする。デュアルプラズマはドライバープラズマとターゲットプラズマという独立した二つのプラズマを持つ構造をしている。また、そのふたつのプラズマは負バイアスを印加されたグリッドによって電気的に分けられている。本研究では陽極電圧とガス圧力とが及ぼす、デュアルプラズマ配位におけるイオンビームへの影響を実験により検討している。

要約(英語): In the dual plasma ion process (DPIP), it is possible to treat an insulating substrate with an energy-controlled dc ion beam, without the surface charging. The dual plasma (DP) configuration as the heart of the DPIP process includes two independent plasma

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 531 Kバイト