異方性ナノカーボン膜のプラズマCVD法による合成と電気特性評価
異方性ナノカーボン膜のプラズマCVD法による合成と電気特性評価
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PST08108
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会
発行日: 2008/12/20
タイトル(英語): Plasma-enhanced deposition and electrical characterization of nanostructured carbon films with anisotropic morphologies
著者名: 嶋田 翔三郎(九州大学),中島誠宏 (九州大学),池田 知弘(九州大学),堤井君元 (九州大学)
著者名(英語): Shozaburo Shimada(Kyushu University),Masahiro Nakashima(Kyushu University),Tomohiro Ikeda(Kyushu University),Kungen Teii(Kyushu University)
キーワード: プラズマCVD、アモルファスカーボン、グラフェン、ナノ構造、電気伝導性Keywords: plasma CVD| amorphous carbon| graphene| nanostructure| electrical conduction
要約(英語): Nanostructured carbon materials such as carbon nanotubes and carbon nanowalls (CNWs) have attracted increasing attention due to their high potentials for applications to gas storages, electronic devices, and electron emitters. CNWs consist of vertically a
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 744 Kバイト
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