大面積容量結合型高周波プラズマへの束縛条件付き補間プロファイル法の適用可能性の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08114

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/20

タイトル(英語): Feasibility study of the Constrained Interpolation Profile Method with large area radio frequency capacitive coupled plasma

著者名: 河合 直聡(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

著者名(英語): Masatoshi Kawai(University of Hyogo),Kingo Azuma(University of Hyogo)

キーワード: 容量結合型プラズマ|大面積プロセス|束縛条件付補間プロファイル法|Capacitive coupled plasma|large area process|Constrained interpolation profile scheme

要約(日本語): フラットディスプレイや薄膜型太陽電池の普及によりプラズマＣＶＤはより大面積な基板に対応することが求められている。容量結合型プラズマにおいては電極の面積が大きくなっても電極間の距離はほとんど変わらないため、生成されるプラズマのアスペクト比は非常に大きくなる。このため、大面積プラズマの数値解析は困難になりつつあり、より扁平なグリッド構造でも計算ができる解析法が必要である。ＣＦＬ条件を超える時間幅で計算が可能な手法の一つに束縛条件付補間プロファイル法がある。この手法を扁平なグリッド構造に適用したところアスペクト

要約(英語): By the development and spread of the flat panel display and the thin film solar cell, it is requested that plasma CVD corresponds to a larger area substrate. In the capacity coupled plasma, the area size of electrodes becomes larger, but the distance bet

原稿種別: 日本語

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