ZnO透明導電膜の抵抗率低減に向けた誘導結合型酸素プラズマ中Zn蒸気の観察

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST08117

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2008/12/20

タイトル(英語): Investigation of zinc vapor in the inductively coupled oxygen plasma for low-resistivity ZnO transparent conductive film

著者名: 佐藤 直幸(茨城大学),宇都 浩平(茨城大学),吉田 善紀(茨城大学),池畑 隆(茨城大学)

著者名(英語): Naoyuki Sato( Ibaraki University ),Kouhei Uto( Ibaraki University ),Yoshinori Yoshida( Ibaraki University ),Takashi Ikehata( Ibaraki University )

キーワード: ZnO系透明導電膜|Zn-O2混合プラズマ|Zn蒸発|キャリア密度|ICPプロセス |ZnO transparent conductive film|Zn-O2 mixture plasma|Zn vaporization|carrier density|ICP processing

要約(日本語): ZnO透明導電膜が低気圧のノンドープ条件で誘導結合型酸素プラズマに亜鉛を蒸発することにより，非加熱のパイレックスガラス上に合成された．その抵抗率は，90 %以上の可視光平均透過率をもち（2～3）×10^-3 Ωcmまで低減された．この結果は，3次元的に移動できる亜鉛蒸発源を適用したことに起因する．亜鉛蒸発を極めて安定に維持しておき亜鉛蒸発源-基板間距離を変えることによって基板入射する亜鉛の量を高精度に制御できるので，我々の合成方法はプラズマ密度，電子温度，空間電位なるプラズマパラメータと抵抗率の相関を得る

要約(英語): ZnO transparent conductive film is synthesized on the unheated pylex glass by vaporizing zinc into the inductively coupled oxygen plasma under the condition of relatively low pressure and undope. The resistivity of which is decreased until a few factor of

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 492 Kバイト