周波数シフトプローブにおける膜堆積の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST09002

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2009/06/12

タイトル(英語): Influences of Film Deposition in Frequency Shift Probe

著者名: 張祺 (中部大学),中村 圭二(中部大学),菅井 秀郎(中部大学)

著者名(英語): Qi Zhang(Chubu University),Keiji Nakamura(Chubu University),Hideo Sugai(Chubu University)

キーワード: 周波数シフトプローブ|電子密度|反応性プラズマ|密度モニタリング|frequency shift probe|electron density|reactive plasma|density monitoring

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 646 Kバイト