アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の基板バイアス依存性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST09006

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2009/06/12

タイトル(英語): Dependence of Substrate Bias on Deposition Process of Amorphous Carbon Films Using Acetylene as a Source gas

著者名: 稲吉 孝紀(長崎大学),川副 大樹(長崎大学),河上 貴聡(長崎大学),篠原 正典(長崎大学),松田 良信(長崎大学),藤山 寛(長崎大学),新田 祐樹(トーヨーエイテック),中谷 達行(トーヨーエイテック)

著者名(英語): Takanori Inayoshi(Nagasaki Univ),Hiroki Kawazoe(Nagasaki Univ),Taka-aki Kawakami(Nagasaki Univ),Masanori Shinohara(Nagasaki Univ),Yoshinobu Matsuda(Nagasaki Univ),Hiroshi Fujiyama(Nagasaki Univ),Yuuki Nitta(TOYO a-tec.),Tatsuyuki Nakatani(TOYO a-tec.)

キーワード: アモルファス炭素薄膜|アセチレンプラズマ|多重内部反射赤外分光法|バイアス効果|炭化水素|amorphous carbon films|acetylene plasma|infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry(MIR-IRAS)|bias effect|hydrocarbon

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 483 Kバイト