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原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程のちがい

原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程のちがい

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST09007

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2009/06/12

タイトル(英語): Dependences of growth process of amorphous carbon films on the different source gases

著者名: 川副 大樹(長崎大学),稲吉 孝紀(長崎大学),河上 貴聡(長崎大学),篠原 正典(長崎大学),松田 良信(長崎大学),藤山 寛(長崎大学),新田 祐樹(トーヨーエイテック),中谷 達行(トーヨーエイテック)

著者名(英語): Hiroki Kawazoe(Nagasaki University),Takanori Inayoshi(Nagasaki University),Taka-aki Kawakami(Nagasaki University),Masanori Shinohara(Nagasaki University),Yoshinobu Matsuda(Nagasaki University),Hiroshi Fujiyama(Nagasaki University),Yuuki Nitta(TOYO a-tec),Tatsuyuki Nakatani(TOYO a-tec)

キーワード: アモルファス炭素膜|プラズマ化学気相堆積法|アセチレン|メタン|赤外分光法|amorphous carbon film|PECVD|acetylene|methane|infrared spectroscopy

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 464 Kバイト

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