異方性ナノカーボン膜のプラズマCVD法による合成と電界放出特性評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST09016

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2009/06/13

タイトル(英語): Plasma-enhanced deposition and field emission characteristics of nanostructured carbon films with anisotropic morphologies

著者名: 中島誠宏 (九州大学),嶋田 翔三郎(九州大学),Alfred T.H.Chuang (九州大学),堤井君元 (九州大学)

著者名(英語): Masahiro Nakashima(Kyushu University),Shozaburo Shimada(Kyushu University),Alfred.T.H.Chuang (Kyushu University),Kungen Teii(Kyushu University)

キーワード: プラズマCVD|アモルファスカーボン|グラフェン|ナノ構造|電気伝導性|plasma CVD|amorphous carbon|graphene|nanostructure|electrical conduction

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 355 Kバイト