複数金属元素同時モニタリング光源を用いた吸収分光法による透明導電膜成膜スパッタリングプロセスの診断

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST09051

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　プラズマ研究会

発行日: 2009/08/07

タイトル(英語): Simultaneous monitoring of atomic densities using a multi-micro hollow cathode lamp in a sputtering process for a transparent conductive film

著者名: 井上 真里(和歌山大学),太田 貴之(和歌山大学),田子多 直樹(和歌山大学),伊藤 昌文(名城大学),加納 浩之(NUエコ･エンジニアリング),東島 康裕(NUシステム),田昭治 (片桐エンジニアリング),堀 勝(名古屋大学)

著者名(英語): Mari Inoue(Wakayama University),Takayuki Ohta(Wakayama University),Naoki Takota(Wakayama University),Masafumi Ito(Meijo University),Hiroyuki Kano(NU Eco Engineering Co.,Ltd.),Yasuhiro Higashijima(NU System Co.,Ltd.),Shoji Den(Katagiri Engineering Co.,Ltd.),Masaru Hori(Nagoya University)

キーワード: マイクロホローカソードランプ|吸収分光法|金属原子密度測定|モニタリング|スパッタリング|micro hollow cathode lamp|absorption spectroscopy|measurement of density of metallic atom|monitoring|sputtering

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 631 Kバイト