デュアルプラズマ法による絶縁物表面の加工特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10006

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/05/07

タイトル(英語): Surface etching of insulator materials by the dual-plasma ion process

著者名: 増子 冬馬(茨城大学),神谷 旭人(茨城大学),富田 和成(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),行村 建((独)産業技術総合研究所)

著者名(英語): Mashiko Touma(Ibaraki University),Kantani Akihito(Ibaraki University),Tomita Masanari(Ibaraki University),Sato Naoyuki(Ibaraki University),Ikehata Takashi(Ibaraki University),Yukimura Ken(AIST)

キーワード: 　デュアルプラズマ|表面処理|絶縁物|表面帯電|プラズマプロセシング|イオンビーム|Dual plasma|Surface treatment|Insulator|Surface charging|Plasma processing|Ion beam

要約(日本語): プラズマで絶縁物表面を処理しようとすると、正イオンによる帯電がおこるため、イオンのエネルギー制御が困難になる。そのため絶縁基材に高周波バイアスをかけ、時間平均として帯電を中和することが通例である。著者らは帯電を抑止しながら直流のイオンビームで絶縁物処理をおこなえるデュアルプラズマ法を提案し、試験を重ねている。本報告では、アルゴンデュアルプラズマによるガラス基板のイオンミリング特性について報告する。

要約(英語): We are proposing the dual-plasma method for processing insulator surfaces without the electrostatic charging. In the present report, test results on the ion etching of a glass by the argon dual-plasma are given.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,147 Kバイト