リング状ホロー陰極効果による高密度高周波プラズマ生成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10009

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/05/08

タイトル(英語): Production of high-density radio frequency plasma with ring-shaped hollow cathode effect

著者名: 大津 康徳(佐賀大学大学院),浦崎 浩史(佐賀大学大学院),堀田 智宏(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学大学院)

著者名(英語): Ohtsu Yasunori(Saga University),Urasaki Hiroshi(Saga University),Hotta Tomohiro(Saga University),Misawa Tatsuya(Saga University)

キーワード: ホロー陰極効果|容量結合型プラズマ|リング状ホロー電極|高密度プラズマ|Hollow cathode discharge|Capacitively coupled plasma|Ring-shaped hollow electrode|High-density plasma

要約(日本語): 容量結合型プラズマはプラズマプロセシングにおいて広く用いられている。しかしながら、プラズマ密度が低密度であるため、生産性に課題が残っている。本研究では、リング状のホロー陰極効果を利用して、高密度なリング状プラズマを発生させる。そのプラズマを下流方向に拡散させることにより、プラズマを均一化させる。高密度プラズマ生成に与えるホロー形状の影響やその均一化に及ぼすホロー本数の影響について報告する。

要約(英語): Capacitively coupled plasma is widely utilized for plasma processing and but has a disadvantage of lower density. In this work, we have developed high-density plasma with ring-shaped hollow cathode effect. The effects of the hollow size on plasma production and the hollow number on its uniformity will be reported.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 621 Kバイト