電熱加速型パルスプラズマ曝露によるフッ化炭素膜の堆積

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10047

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/08/11

タイトル(英語): Deposition of fluorinated carbon films by exposure of electrothermal pulsed plasma

著者名: 飯田 将康(名古屋工業大学),木村 高志(名古屋工業大学)

著者名(英語): Iida Masayasu(Nagoya Institute of Technology),Kimura Takashi(Nagoya Institute of Technology)

キーワード: 材料プロセス|電熱加熱型パルスプラズマ|昇華|堆積|カ－ボン膜|materials processing|electrothermal pulsed plasma |ablation|deposition|carbon film

要約(日本語): 我々は、電熱加熱型パルスプラズマ推進機を用いて固体原料の昇華により発生した気体やイオンを基板材料へ曝露することで成膜等を行う新しい材料プロセス方式を検討している。固体推進剤としてPTFEを用いた場合、フッ素含有ダイアモンドライクカーボン膜が形成される。本研究では、堆積膜の膜厚、硬度などの分析を行い、パルスプラズマの生成条件、雰囲気ガスの種類などが膜質へ及ぼす影響についての実験結果を報告する。

要約(英語): Ａ new materials processing by exposure of　electrothermal pulsed plasma thruster with a　discharge room in an insulator rod is proposed. Here the material of the insulator rod is polytetrafluoroethylene (PTFE). The fluorinated diamond-like carbon is deposited on the substrate by the exposure of the pulsed plasma. Some experimental results related to the deposition of the carbon thin films are reported.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 486 Kバイト