超音速不足膨張噴流を用いた非平衡プラズマCVDによるα/μc-Si:H膜成長

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10049

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/08/12

タイトル(英語): Microcrystallines/amorphous silicon growth by supersonic under-expanded jet and non-equilibrium plasma enhanced CVD

著者名: 安藤 大輔(岐阜大学),中村 次郎(岐阜大学),恒川 佳寛(岐阜大学),栗林 志頭眞(岐阜大学),西田 哲(岐阜大学),牟田 浩司(岐阜大学),竹内 良昭(三菱重工業),山内 康弘(三菱重工業),高塚 汎(三菱重工業)

著者名(英語): Ando Daisuke(Gifu university),Nakamura Jiro(Gifu university),Tsunekawa Yoshihiro(Gifu university),kuribayashi shizuma(Gifu university),Nishida Satoshi(Gifu university),Muta Hiroshi(Gifu university),Takeuchi Yoshiaki(Mitsubishi Heavy Industries,Ltd),Yamauchi Yasuhiro(Mitsubishi Heavy Industries,Ltd),Takatsuka Hiromu(Mitsubishi Heavy Industries,Ltd.)

キーワード: 非平衡プラズマ|ＣＶＤ|超音速不足膨張噴流|ＶＨＦプラズマ|低真空領域|衝突噴流|non-equilibrium plasma |CVD|under-expanded jet |VHF plasma|rough vacuum region|impinging jet

要約(日本語): 超音速不足膨張噴流を用いて、非平衡プラズマCVDによる新しいα/μc-Si:H膜高速成長方法を提案する

要約(英語): Experimental investigation of new α/μc-Si:H growth method by supersonic under-expanded jet and non-equilibrium plasma enhanced CVD

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,025 Kバイト