フッ化ビニリデンガスを用いた高周波プラズマＣＶＤによる撥水性薄膜合成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10059

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/08/12

タイトル(英語): Preparation of water-repellent films by radio frequency plasma CVD using vinylidene fluoride gas

著者名: 大津 康徳(佐賀大学),木原 清晴(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学)

著者名(英語): Ohtsu Yasunori(Saga University),Kiyoharu Kihara(Saga University),Misawa Tatsuya(Saga University)

キーワード: 撥水性|フッ化ビニリデン|高周波プラズマＣＶＤ|低電子温度|基板バイアス|water-repellency |vinylidene fluoride gas|RF plasma CVD|low electron-temperature plasma|substrate-biasing

要約(日本語): フッ化炭素や炭化水素から構成されるフッ化ビニリデン（C2H2F2)ガスを用いた高周波プラズマＣＶＤ法により、撥水性薄膜合成を行っている。通常の容量結合型高周波プラズマによる薄膜合成では、水滴接触角が１５０度を有する超撥水性を実現している。しかしながら、密着性に課題があり、現在、プラズマパラメーターの制御や基板バイアスを行いながら、その改善を行っている。

要約(英語): We have prepared the water-repellent films by radio frequency plasma CVD method using vinylidene fluoride gas. The ultra water-repellent films with the contact angle of 150 degree were attained by the conventional capacitively coupled plasma CVD. However, its adhesion was very weak. In this work, the influences of plasma-parameter control and substrate-biasing on the adhesion have been investigated.

原稿種別: 日本語

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