172nm真空紫外光で励起したアンモニアガスの脱硝反応特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10072

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/12/16

タイトル(英語): NOx removal characteristics by activated ammonia gas by 172 nm VUV.

著者名: 神原 信志(岐阜大学),近藤 光浩(岐阜大学),早川 幸男(岐阜大学),増井 芽(アクトリー),菱沼 宣是(ウシオ電機)

著者名(英語): Shinji Kambara(Gifu University),Mitsuhiro Kondo(Gifu University),Yukio Hayakawa(Gifu University),Megumi Masui(Actree Corporation),Nobuyuki Hishinuma(Ushio Inc.)

キーワード: 真空紫外光|光化学|脱硝|VUV|Photochemical|De-NOx

要約(日本語): Xe封入DBDから発光する172nm真空紫外光でアンモニアガスを励起し，それを高温場の一酸化窒素を含む排ガスに注入した時の脱硝性能を調べた。

要約(英語): De-NOx characteristics were investigated. As de-NOx agent, an ammonia gas activated by 172nm VUV generated from an Xe DBD.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,100 Kバイト