低圧プラズマによる酸化還元反応および植物成長への影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10073

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/12/16

タイトル(英語): Redox reaction and plant growth stimulation using low pressure plasmas

著者名: 林 信哉(佐賀大学),中東 朱里(佐賀大学),秋吉 雄介(佐賀大学),北崎 訓(九州大学),古閑 一憲(九州大学),白谷 正治(九州大学)

著者名(英語): Hayashi Nobuya(Saga University),Nakahigashi Akari(Saga University),Akiyoshi Yusuke(Saga University),Kitazaki Satoshi(Kyushu University),Koga Kazunori(Kyushu University),Shiratani Masaharu(Kyushu University)

キーワード: 低圧プラズマ|酸化還元反応|チオール化合物|植物成長促進|種子|low pressure plasma|redox reaction|thiol compound|growth stimulation|seeds

要約(日本語): 低圧の高周波もしくはマイクロ波プラズマを植物種子に照射した結果，発芽およびその後の成長が促進することが分かった．種子内の酸化還元を担うチオレドキシンとグルタチオンの総量を計測した結果，プラズマ照射に応じて変化することが明らかとなった．このチオール化合物の変化により生体内の成長因子が活性化された結果，成長促進が生じた可能性が考えられる．

要約(英語): The redox reaction between cystein and cystine is studied using water vapor plasma produced by the RF discharge concerning the growth control of plants. The stress reaction of plants has been observed, when the water vapor plasma is irradiated to the seeds or stem, leaf of plants such as radish sprout.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 670 Kバイト