同軸対向型プラズマフォーカスによる極端紫外光源の高効率化

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10090

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/12/17

タイトル(英語): Counter-facing Plasma Focus System for Efficient Extreme-Ultra-Violet Plasma Light Source

著者名: 林 賢志(東京工業大学),黒田 雄介(東京工業大学),桑原 一(IHI　石川島播磨重工),中島 充夫(東京工業大学),堀岡 一彦(東京工業大学)

著者名(英語): Hayashi Kenji(Tokyo Institute of Technology),Kuroda Yusuke(Tokyo Institute of Technology),Kuwabara Hajime(Ishikawajima Heavy Industries),Nakajima Mitsuo(Tokyo Institute of Technology),Horioka Kazuhiko(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: プラズマ・フォーカス|高エネルギー密度|極端紫外|半導体露光|ピンチ|放電|Plasma Focus|High Energy Density|Extreme Ultra-Violet|Lithography|Pinch|Discharge

要約(日本語): 極性の異なる同軸型のプラズマフォーカス装置を対向させる方式の新しい高エネルギー密度プラズマ発生装置の実験結果を報告する。対向型フォーカス装置によって生成されたプラズマは、中心部分で衝突するとともに自己磁場によって維持され高効率で極端紫外光を発生することが期待できる。

要約(英語): Recent experimental results on counter-facing coaxial plasma focus system are presented. The pinched high energy density plasma is expected to be an efficient extreme ultraviolet light source for the next generation lithography.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 3,009 Kバイト