集束型デュアルプラズマにおける高密度プラズマの生成と帯電中和特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10115

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/12/18

タイトル(英語): Generation of high density plasma and charge neutralization characteristics in the focused dual-plasma

著者名: 富田 和成(茨城大学),増子 冬馬(茨城大学),水野 天(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学)

著者名(英語): Masanari Tomita(Ibaraki University),Touma Mashiko(Ibaraki University),Takashi Mizuno(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University)

キーワード: デュアルプラズマ|帯電中和|絶縁物処理|グリッド|イオンビーム|幾何学的集束|dual plasma|charge neutralization|insulators processing|grid|ion beam|geometrical focusing

要約(日本語): プラズマ中に設けた接地電位のグリッドでプラズマを二分割し、絶縁物の表面加工を可能にする方法をデュアルプラズマと呼んでいる。本研究ではグリッドをドーム型にすることでイオンビームを収束させ、プラズマ密度の増加や、加工速度の向上を狙った収束型デュアルプラズマ法の基礎特性を調査し、従来の平板型と比べたドーム型の特徴についても評価する。

原稿種別: 日本語

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