ナノパルスプラズマCVD法を用いた準大気圧DLC膜の短時間合成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST10116

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2010/12/18

タイトル(英語): Short Time Synthesis of Diamond-Like Carbon in Subatmospheric Pressure by Nanopulse Plasma Chemical Vapor Deposition

著者名: 宮武 直(東京工業大学　大学院),大竹 尚登(東京工業大学　大学院)

著者名(英語): Miyatake Nao(Tokyo Institute of Technology),Ohtake Naoto(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: ナノパルス|プラズマ|ＤＬＣ|炭素膜|大気圧

要約(日本語): 通常DLC 膜の合成は1~10Pa 程度の低圧力下で行われる．この中で大気圧下でのDLC の合成は，装置の小型化や生産性の向上といった利点がある点で幅広い可能性を秘めている．これまでナノパルスプラズマCVD により準大気圧及び大気圧下でDLC 合成が実現しており，産業適用への研究が課題である．そこでプレス加工と成膜を平行して行うハイブリッド加工プロセスを実現する為の実験として極短時間で成膜したDLC膜の特性や合成速度について述べる．

要約(英語): Diamond-like carbon (DLC) films are generally deposited by physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) method under low pressure, below 10 Pa (1.0×10-4 atm). We have achieved synthesizing DLC in atmospheric pressure (101kPa) by nanopulse Chemical Vapor Deposition (CVD) method using nanopulse generator(1). In this study, DLC film was deposited under sub-atmospheric pressure (100-500 Torr), and short time (under 2 minutes). Structural property was obtained from Raman spectroscopic analysis. Every film from the experiments had the hardness over 15 GPa under nanoindentation test.

原稿種別: 日本語

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