Aｒで希釈された誘導性結合反応性プラズマの特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11003

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/03/14

タイトル(英語): Properties of inductively coupled rf reactive plasmas diluted with argon

著者名: 木村 高志(名古屋工業大学)

著者名(英語): Takashi Kimura(Nagoya Institute of Technology)

キーワード: 誘導性結合プラズマ|反応性プラズマ|プロ－ブ|発光分光法|inductive plasma|reactive plasma|probe|optical emission spectroscopy

要約(日本語): Arで希釈された様々な誘導性結合反応性プラズマの特性を調査する。この調査では、アクチノメトリ法に関連させた発光分光法とともに、プロ－ブ法による電子エネルギー分布の測定を行う。様々な反応性プラズマにおける電子密度、電子温度等の電子特性ならびに発光分光測定により推定されたラジカル密度が示される。

要約(英語): Properties of inductively coupled reactive plasmas diluted by Ar are investigated by Langmuir probe method and optical emission spectroscopy combined with actinometry. The electron properties, such as the electron density and its effective temperature, and densities of neutral radicals are measured in various reactive plasmas and those results are shown in this report.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 4,210 Kバイト