ハイパワーパルスマグネトロンスパッタプラズマ源のガス圧力依存性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11007

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/05/27

タイトル(英語): Gas pressure dependence of high power pulse magnetron sputter plasma

著者名: 奥原 大地(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学),赤松 浩(神戸市立工業高等専門学校),池畑 隆(茨城大学)

著者名(英語): Daichi Okuhara(University of Hyogo),Kingo Azuma(University of Hyogo),Hiroshi Akamatsu(Kobe City College of Technology),Takashi Ikehata(ibaraki University)

キーワード: マグネトロンスパッタ|グロー放電|スパッタ|ＨＰＰＳ|ＨｉＰＩＭＳ|ＰＶＤ|Magnetron Sputtering|Glow discharge|Sputter|HPPS|HiPIMS|PVD

要約(日本語): ハイパワーパルスマグネトロンスパッタ (HPPMS)による放電はアーキングが起こりにくく、高密度の金属プラズマを得ることができる。製作したHPPMSプラズマ源はターゲットの10～20mm離れたところで垂直磁束密度が0点となる磁束を閉じ込めないア ンバランスドマグネトロンプラズマ源であった。 このプラズマ源では0.1～2Paの範囲では安定した放電特性を得ることができ、 2Pa、―800V、500Hzで最大電流18Aを得た。 また、1.7Pa以上ではイオン化されたTi II, Ti IIIの強い発光スペクトルが300～400 nm の波長帯でを観測された。

要約(英語): High-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) discharge is hardly arcing and can be produced high density metal plasma. We fabricated HPPMS plasma source and examined. It does not shut up a magnetic field, which cross zero among 10 to 20 mm. The discharge stable between 0.1 to 2 Pa was obtained. A maximum of 18 A current was observed at 2 Pa, and emission of Ti was observed at 1.7 Pa or more.

原稿種別: 日本語

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