対向電極型ハイパワーパルススパッタグロー放電における静電シールドの効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11008

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/05/27

タイトル(英語): A electrostatic shield effect on confronted electrode high power pulse sputter glow discharge

著者名: 東 欣吾(兵庫県立大学),奥原 大地(兵庫県立大学),行村 建(産業技術総合研究所),中野 禅(産業技術総合研究所),小木曽 久人(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Kingo Azuma(University of Hyogo),Daichi Okuhara(University of Hyogo),Ken Yukimura(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Shizuka Nakano(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Hisao Ogiso(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

キーワード: パルス放電プラズマ|グロー放電|ペニング放電|スパッタ|プラズマイオンプロセス|Pulsed discharge plasma|Glow discharge|Penning discharge|Sputter|Plasma ion process

要約(日本語): 対向電極型ハイパワーパルススパッタ（ＨＰＰＳ）グロー放電は狭いギャップを隔てた一対のスパッタターゲットに対して垂直に磁界を配置し大電力パルスを印加してギャップ間に金属プラズマを発生させる。一般にスパッタ装置ではエネルギーをスパッタターゲットに集中させるため静電シールドが配置される。今回はＨＰＰＳグロー放電において静電シールドが放電特性に及ぼす影響について報告する。

要約(英語): High power pulse sputter (HPPS) glow discharge is able to generate high-ionized metal plasma with instantaneous power consumption of several tens of kilowatts. HPPS glow plasma is generated at the narrow gap between two confrontation metal-plate cathode targets with a magnetic field perpendicular to the targets. In this paper, we investigated about the influence which a grounded shield has on HPPS discharge. It was found that the average power consumed power of increased about 20% and diffused current from plasma source increased about 30% at Ar pressure of 2 Pa with the shielded discharge compared shield-less discharge.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 4,919 Kバイト