低電子温度プラズマＣＶＤによる撥水膜合成とその密着性改善

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11019

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/05/28

タイトル(英語): Preparation of water-repellent films by low electron temperature plasma CVD and an improvement of its adhesion

著者名: 大津 康徳(佐賀大学),木原 清晴(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学)

著者名(英語): Ohtsu Yasunori(Saga University),Kihara Kiyoharu(Saga University),Misawa Tatsuya(Saga University)

キーワード: 撥水性|低電子温度プラズマ|フッ化ビニリデン|密着性

要約(日本語): 撥水性膜は、様々な分野で防水対策の観点から広く用いられている。本研究では、フッ化ビニリデンガスを用いて、高周波低電子温度プラズマＣＶＤにより、撥水性膜を合成した。更に、基板バイアスを行うことにより、基板との密着性を検討した。基板バイアス電圧を増加することにより、密着性が改善することがわかった。また、その密着強度は基材の硬度に強く依存することも明らかとなった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 617 Kバイト