パルスマグネトロンスパッタリングによるダイヤモンドライクカ－ボン成膜

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11023

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/05/28

タイトル(英語): Deposition of Diamond-like carbon films by pulsed magnetron sputtering

著者名: 木村 高志(名古屋工業大学),飯田 将康(名古屋工業大学 )

著者名(英語): Kimura Takashi(Nagoya Institute of Technology ),Iida Masayasu(Nagoya Institute of Technology )

キーワード: マグネトロンスパッタリング|パルスプラズマ|ダイヤモンドライクカ－ボン|材料プロセス|Magnetron Sputtering|Pulsed Plasma|Diamond-like carbon|Materials Processing

要約(日本語): パルスマグネトロンスパッタリング装置の動作条件を変えながら、ダイヤモンドライクカ－ボン(DLC）成膜を行った。本研究では、堆積膜の膜厚、硬度などの分析を行い、パルスマグネトロンスパッタリング装置の動作条件、希釈ガスの種類などがDLC膜へ及ぼす影響についての実験結果を報告する。

要約(英語): Diamond-like carbon films (DLC) are deposited on the silicon substrates using pulsed magnetron sputtering plasmas. In our experiment, the deposition rate is around 3-5 nm per minute. The maximum of the hardness measured by a nano- indenter exceeds 20 GPa at Ar pressure of 3mTorr, whereas the hardness of the films decreases with the increase in the pressure. In addition, the influence of dilution gas on the properties of the DLC films is also investigated.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 3,860 Kバイト